24/03/2026
MOSFET-āĻāϰ āĻĒā§āϰā§āĻŖāϰā§āĻĒ āĻšāϞ⧠Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect TransistorāĨ¤ āĻāĻāĻŋ āĻāĻāĻāĻŋ āĻŦāĻŋāĻļā§āώ āϧāϰāύā§āϰ āĻĢāĻŋāϞā§āĻĄ-āĻāĻĢā§āĻā§āĻ āĻā§āϰāĻžāύāĻāĻŋāϏā§āĻāϰ āϝāĻž āĻāϞā§āĻāĻā§āϰāύāĻŋāĻ āϏāĻžāϰā§āĻāĻŋāĻā§ āĻŽā§āϞāϤ āϏā§āĻāĻ āĻŦāĻž āĻ
ā§āϝāĻžāĻŽā§āĻĒā§āϞāĻŋāĻĢāĻžāϝāĻŧāĻžāϰ āĻšāĻŋāϏā§āĻŦā§ āĻŦā§āϝāĻŦāĻšā§āϤ āĻšāϝāĻŧāĨ¤
āĻāĻāĻŋ āϏāĻŋāϞāĻŋāĻāύā§āϰ āĻŽāϤ⧠āϏā§āĻŽāĻŋāĻāύā§āĻĄāĻžāĻā§āĻāϰ āĻāĻĒāĻžāĻĻāĻžāύā§āϰ āĻāĻĒāϰ āϏāĻŋāϞāĻŋāĻāύ āĻĄāĻžāĻ-āĻ
āĻā§āϏāĻžāĻāĻĄā§āϰ āĻāĻāĻāĻŋ āĻĒāĻžāϤāϞāĻž āĻ
āύā§āϤāϰāĻ (Insulating) āϏā§āϤāϰ āϤā§āϰāĻŋ āĻāϰ⧠āĻāĻ āύ āĻāϰāĻž āĻšāϝāĻŧāĨ¤
MOSFET-āĻāϰ āĻĒā§āϰāϧāĻžāύ āĻŦā§āĻļāĻŋāώā§āĻā§āϝāϏāĻŽā§āĻš:
āĻā§āϞā§āĻā§āĻ āĻāύā§āĻā§āϰā§āϞā§āĻĄ āĻĄāĻŋāĻāĻžāĻāϏ: āĻāĻāĻŋ āĻāĻžāϰā§āύā§āĻ āύāϝāĻŧ, āĻŦāϰāĻ āĻāϰ āĻā§āĻā§ āĻĒā§āϰāϝāĻŧā§āĻ āĻāϰāĻž āĻā§āϞā§āĻā§āĻā§āϰ āĻŽāĻžāϧā§āϝāĻŽā§ āĻāĻžāϰā§āύā§āĻ āĻĒā§āϰāĻŦāĻžāĻš āύāĻŋāϝāĻŧāύā§āϤā§āϰāĻŖ āĻāϰā§āĨ¤
āĻāĻžāϰā§āĻŽāĻŋāύāĻžāϞ: āĻāĻāĻāĻŋ āϏāĻžāϧāĻžāϰāĻŖ āĻŽā§āϏāĻĢā§āĻā§ āϤāĻŋāύāĻāĻŋ āĻĒā§āϰāϧāĻžāύ āĻāĻžāϰā§āĻŽāĻŋāύāĻžāϞ āĻĨāĻžāĻā§:
1.Gate (āĻā§āĻ): āϝāĻž āĻā§āϰāĻžāύāĻāĻŋāϏā§āĻāϰāĻāĻŋāĻā§ āύāĻŋāϝāĻŧāύā§āϤā§āϰāĻŖ āĻāϰā§āĨ¤
2.Source (āϏā§āϰā§āϏ): āϝā§āĻāĻžāύ āĻĨā§āĻā§ āĻāĻžāϰā§āύā§āĻ āĻĒā§āϰāĻŦā§āĻļ āĻāϰā§āĨ¤
3.Drain (āĻĄā§āϰā§āύ): āϝā§āĻāĻžāύ āĻĻāĻŋāϝāĻŧā§ āĻāĻžāϰā§āύā§āĻ āĻŦā§āϰ āĻšāϝāĻŧā§ āϝāĻžāϝāĻŧāĨ¤
āĻŦāĻŋāĻāĻžāĻ:
MOSFET āϏāĻžāϧāĻžāϰāĻŖāϤ āĻĻā§āĻ āĻĒā§āϰāĻāĻžāϰā§āϰ āĻšāϝāĻŧ:
1.Enhancement Type: āĻāĻāĻŋ āϏāĻžāϧāĻžāϰāĻŖāϤ 'Off' āĻĨāĻžāĻā§ āĻāĻŦāĻ āĻā§āĻā§ āĻā§āϞā§āĻā§āĻ āĻĻāĻŋāϞ⧠'On' āĻšāϝāĻŧāĨ¤
2.Depletion Type: āĻāĻāĻŋ āϏāĻžāϧāĻžāϰāĻŖāϤ 'On' āĻĨāĻžāĻā§ āĻāĻŦāĻ āĻā§āĻā§ āĻā§āϞā§āĻā§āĻ āĻĻāĻŋāϞ⧠āĻāĻžāϰā§āύā§āĻ āĻĒā§āϰāĻŦāĻžāĻš āĻŦāύā§āϧ āĻŦāĻž āĻŦāĻžāϧāĻžāĻā§āϰāϏā§āϤ āĻšāϝāĻŧāĨ¤